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爱发科NE-550EXz

产品简介
NE-550 EX真空干法刻蚀设备是一款用于研发的高密度等离子刻蚀设备,采用了磁场ICP的工艺方法。该设备适用于单晶片处理类型的LL室,具有空间占用小、操作简单、应用效率高的特点。
咨询电话:
023-86968816
详细介绍
技术参数
产品配置表
产品特性
蚀刻均匀性,稳定性优异
Load -lock式,全自动控制
应用广泛Si02,SiN,金属,化合物等
构造简单,维护简便
2.4,6,8inch基板兼容,切换便利
1.功率范围:0-500W(连续可调,精度为1°C)
2.腔体内部尺寸:直径200mm × 深度320mm
3.极限真空度:≤10Pa
4.容积:10L
5.气体流量控制:2路处理气体气路,流量范围0-500ml/min
6.外形尺寸:650mm(宽)×650mm(高)×600mm(深)