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爱发科CS-200z

产品简介
CS-200z是一款在真空条件下工作的设备,主要应用于溅射工艺。在DC或RF作用下,氩气产生氩离子,高能氩离子撞击靶材产生溅射,溅射出的原子或分子沉积在基板表面,形成薄膜。
咨询电话:
023-86968816
详细介绍
技术参数
产品配置表
产品特性
Loadlock式,自动运行,操作简单
成膜面积大,均匀性好
T/S距离60~180mm可调,适用广
可换托盘式,基板尺寸切换简便
2~8inch,方片,未定型片,切换兼容
向上溅射,向下溅射可选,颗粒抑制
