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爱发科蒸发Esz系列 Esz-R-12

产品简介
ESZ-R系列蒸发设备是一种高真空蒸发镀膜设备,主要用于在基板上形成金属膜或氧化物膜。该设备采用Batch式操作,适用于研究开发及少量生产。它可以通过操作面板进行集中控制,实现抽真空、成膜等作业内容的自动化操作
咨询电话:
023-86968816
详细介绍
技术参数
产品配置表
产品特性
1.高真空性能
腔室极限真空度达3.0×10⁻⁵Pa,确保薄膜高纯度和附着力。
支持氧气通入成膜,适用于ITO、SiO₂、TiOx等光学介质膜的制备。
2.镀膜精度与均匀性
镀膜精度高达10⁻¹⁰m,重复性和均匀性优异,适用于高精度研发需求。
配置离子源辅助沉积,增强薄膜致密性和表面处理效果。
3.设备结构与配置
腔室采用球形设计,直径可达φ1100mm,支持更多基片挂载。
兼容多种蒸发源,最多支持8组750W加热灯,适配热阻蒸发以节省材料。
4.应用场景
面向研究开发及小批量生产,适用于半导体、光通信、传感器等领域。
兼容基片规格:2~12英寸圆形或方片基板,支持不定型基材处理。
