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爱发科NLD-5700

产品简介
爱发科NLD-5700是一款应用于光学器件和MEMS制造领域的量产型干法刻蚀设备,其核心特点为搭载了磁性中性线放电(NLD)等离子源,可实现低压、低电子温度与高密度等离子体的稳定生成。该设备通过独立控制等离子体密度及基板入射能量,具备宽工艺窗口和高均匀性,适用于从离子性刻蚀到自由基性刻刻的多样化工艺调控。
咨询电话:
023-86968816
详细介绍
技术参数
产品配置表
产品特点
结构设计:支持洁净房内扩展为双腔配置,可选配NLD、有磁场ICP、CCP或去胶腔室,提升生产灵活性;
维护性能:腔体结构简化,干法清洁效率高,降低了设备维护成本;
工艺支持:依托半导体技术研究所的专业支持,可定制光衍射器件、微透镜、光子学结晶等复杂工艺解决方案。
